2inから300mmまでの高速熱処理。保持まで10秒。
高速加熱技術を結集し、研究開発から生産用までお客様のニーズにお応えし...

SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温領域1800℃まで昇温可能な卓上型超高温ランプアニ...

最大6インチまでのランプアニール装置。
個別半導体プロセスのシリサイド形成や化合物半導体のプロセスアニールが可能です。

太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。
QHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ、さらに石...

太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。
VHCシリーズはQHCシリーズの機能に加えて真空排気系とピラニ真空計が搭載さ...

基板とインゴットの濡れ性を的確に観察可能。
1993年宇宙開発事業団に納入した濡れ性試験・接触角測定装置をベースに小型で低...

CASシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の使用によって急速加熱や急速冷却、試験片の直接温度制御、簡便な雰囲気生成などを実現し、鉄鋼材料...

熱処理目的に応じた加熱システム形成。
本装置は部材の形状とプロセス上の熱処理目的に応じて加熱炉及び加熱システムが形成されます...

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...

1800℃まで高速1分で昇温。
コンパクトで1800℃まで昇温可能な赤外線ゴールドイメージ炉です。ゾーンメルティングやSi...

本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。 試料寸法20mm 角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-5000 シリーズを発売以来、多くのお客様にご愛用いただいておりますが、「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm 角までの熱処理を可能といたしました。

小サンプルの研究開発に最適。
高速加熱・高速冷却、クリーン加熱が行えます。
自在な雰囲気下で加熱する事が可能で...

冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置。
冷却は空冷ファン採用なので壁コンセントさえあれば直ちに加熱が出来ます。

コンパクトながら高真空の対応が可能。
MILA-5000-P-Nをベースに高速加熱・高速冷却、温度の精密制御、クリーンな加...

高速加熱に精度よく対応可能な温調器。
高速昇温時の早いレスポンスが要求される赤外線ゴールドイメージ炉はもとより低速昇温炉用に...

赤外線ゴールドイメージ炉と石英チャンバの簡易型装置。
赤外線ゴールドイメージ炉及び試料ホルダを含んだ石英チャンバから構成さ...