赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ
赤外線イメージ炉 実験用途加熱・アニール装置熱処理・加熱装置
2inから300mmまでの高速熱処理。保持まで10秒。
高速加熱技術を結集し、研究開発から生産用までお客様のニーズにお応えした装置を製造・販売いたします。最大温度1450℃の高温雰囲気下での加熱も対応いたします。
用途
- LED基板アニール
- 活性化アニール
- SiCウェハーのアニール
- パワーデバイスのアニール
- シリサイド形成・サリサイド形成
- 酸化雰囲気対応可能
特長
- 高速熱処理が可能
- コールドウォール構造の為、重金属汚染がありません
- CtoCロボット搬送システム対応可能
- 製造工程装置との組み合わせ・連結が可能
仕様
| 型式 | RTA-2000 | RTA-4000 | RTA-6000 | RTA-8000 | RTA-12000 |
|---|---|---|---|---|---|
| 試料寸法 | 2in | 4in | 6in | 8in | 300mm |
| 温度範囲 | 室温～1000℃（温度範囲もカスタム可能） | ||||
| 測定雰囲気 | 各種雰囲気下で対応可能 | ||||
| アプリケーション | CtoC対応 前後工程装置との連結 カスタマイズ可能 |
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