真空機器の国内総合商社 真空機器はアルバック販売へ!
製品情報

赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ

赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ

2inから300mmまでの高速熱処理。保持まで10秒。
高速加熱技術を結集し、研究開発から生産用までお客様のニーズにお応えした装置を製造・販売いたします。最大温度1450℃の高温雰囲気下での加熱も対応いたします。



用途

  • LED基板アニール
  • 活性化アニール
  • SiCウェハーのアニール
  • パワーデバイスのアニール
  • シリサイド形成・サリサイド形成
  • 酸化雰囲気対応可能

特長

  • 高速熱処理が可能
  • コールドウォール構造の為、重金属汚染がありません
  • CtoCロボット搬送システム対応可能
  • 製造工程装置との組み合わせ・連結が可能

仕様

型式 RTA-2000 RTA-4000 RTA-6000 RTA-8000 RTA-12000
試料寸法 2in 4in 6in 8in 300mm
温度範囲 室温~1000℃(温度範囲もカスタム可能)
測定雰囲気 各種雰囲気下で対応可能
アプリケーション CtoC対応
前後工程装置との連結
カスタマイズ可能
Copyrights© 2014 ULVAC EQUIPMENT SALES, Inc. All Rights Reserved.