超高真空卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000UHV型
コンパクトながら高真空の対応が可能。
MILA-5000-P-Nをベースに高速加熱・高速冷却、温度の精密制御、クリーンな加熱、自在な雰囲気選択などMILA-5000シリーズの特長に加え超高真空対応をコンセプトに誕生しました。加熱操作をパソコン上で行え手軽にデータ管理出来ます。
用途
- 超高真空中での熱処理
- 昇温脱離ガス分析用炉
特長
- 超高真空の雰囲気での熱処理
- 10⁻⁵Paまで対応（TMP使用時）
- MILA-5000-P-N（高温型）の性能を継承
仕様
| 型式 | MILA-5000 UHV |
|---|---|
| 温度範囲 | 室温～1200℃（MAX） |
| 試料寸法 | 角20mm×厚2mm |
| 測定雰囲気 | 大気中、高真空中、不活性ガス中 |
| アプリケーション | 真空排気装置(ロータリーポンプセット) 冷却水循環ユニット |
