赤外線ゴールドイメージ炉 RHL-Eシリーズ
赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用頂いております。高速加熱からワイドエリアの加熱までお客様のニーズにお応えします。
用途
- Si、化合物半導体のRTA
- ガラス・セラミック基板のアニール炉
- 金属の雰囲気焼鈍炉
- 複合材料の耐熱評価炉
- 高温引張・圧縮試験用加熱炉
特長
- 楕円反射面を有し高温まで高速加熱することが可能
仕様
| 型式 | E25P | E210P | E45P | E48 | E410P | E416 |
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| 温度範囲 | 室温～1300℃ | 室温～1300℃ | 室温～1400℃ | 室温～1400℃ | 室温～1400℃ | 室温～1400℃ |
| 熱処理ゾーン | φ7mm× 40mm |
φ7mm× 80mm |
φ10mm× 40mm |
φ10mm× 60ｍｍ |
φ10mm× 80mm |
φ10mm× 130mm |
| アプリケーション | 冷却水量、最大加熱温度は加熱物の材質・加熱チャンバにより変わります。 加熱ゾーンは参考値です。 |
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