赤外線ランプ加熱装置 QHCシリーズ
赤外線イメージ炉 システム加熱・アニール装置熱処理・加熱装置
太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。
QHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ、さらに石英の熱処理チャンバをコンパクトに装備した高速加熱・高速冷却装置です。加熱操作をパソコン上で行え手軽にデータ管理出来ます。
用途
- 太陽電池基板の熱処理
- 水素雰囲気下での熱処理
- 各種材料の基礎研究用雰囲気アニール・熱処理シミュレータ
- ガスクェンチ熱処理
- 熱サイクル試験 熱衝撃試験
- 半導体材料の焼成、アニール条件の検討
- 2インチウェハ研究用アニール
- セラミックスのO₂量制御雰囲気での熱処理
特長
- 高速加熱から低速加熱まで幅広い条件設定
- 多段ステップ サイクル加熱
- ガス冷却機構による高速ガスクェンチ、クーリングコントロール
- パソコンによる手軽なデータ管理
仕様
| 型式 | QHC-E410 | QHC-P610 | QHC-P616 |
|---|---|---|---|
| 温度範囲 | 室温～1400℃ | 室温～1200℃ | 室温～1200℃ |
| 熱処理ゾーン | φ15mm×長100mm | φ50mm×長100mm | φ50mm×長150mm |
| 均熱ゾーン（保持時目安） | φ10mm×80mmL | φ40mm×80mmL | φ40mm×120mmL |
| 測定雰囲気 | 大気中、ガス中、ガスフロー中、真空中（真空排気系はオプション） | ||
| アプリケーション | ロータリーポンプ排気セット 冷却水循環装置 特殊仕様装置で高真空対応も可能 |
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