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製品情報

CVD装置

a-Si成膜や不動態膜成膜に不可欠なPE-CVD装置から、メタルCVD、熱CVD装置まで、枚葉式、バッチ式あるいは開発用特型をラインアップしています。

ロードロック式プラズマCVD装置 CC-200/400

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。

枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400

枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。

カーボンナノチューブ成長実験装置 CN-CVD-400

アルバックは、基板上にカーボンナノチューブ(以下ナノチューブとする)を垂直、かつ選択的に成長させる技術を世界で初めて開発しました。この...

枚葉式プラズマCVD装置 CMD シリーズ

CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。

縦型プラズマCVD装置 CCV シリーズ

CCVシリーズはa-Si成膜用縦型CVD装置です。30年以上の量産実績を持っています。個別のチャンバーで低デポレートに成膜することで高...

ETP-CVD装置 ULGLAZE シリーズ

ULGLAZEシリーズは、モノマーとO2を使ってポリカーボネート上に耐傷付き性、耐摩耗性成膜を行うエキスパンディング サーマル プラズ...

マルチチャンバ型スパッタリング装置 ENTRONTM-EX2 W300

マルチチャンバ型スパッタリング装置ENTRONTM-EX2 W300は、多様なプロセスを結び付ける最新のプラット...

マルチチャンバ型装置 ENTRONTM N300

マルチチャンバ型装置ENTRONTM N300は、適切な投資効率を実現するジャストフィット装置です。PVD、CV...

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