枚葉式PE-CVD装置
CME-200E/400

成膜関連装置CVD装置

枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。

用途

• パワーデバイス
• LED、LD、高速デバイス
• 有機EL
• 太陽電池
• MEMS

特長

• 27.12MHzの高密度プラズマプロセス
• SiH₄系：SiO₂、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：SiO₂膜の対応可能
• NF₃+Arプラズマによるチャンバークリーニング可能
• 有機EL向けに低温成膜用ヒーター搭載可能
• トレー搬送で、最大□200mmまで(CME-200E)の基板サイズに対応(CME-400:300×400に対応)