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製品情報

成膜関連装置

アルバックは真空技術を核とする基盤技術とその周辺技術を結合し、半導体、電子部品、薄型テレビ、太陽電池、自動車、医薬・食品・科学など多岐にわたる産業向け成膜装置を提供しています。

液晶滴下・真空貼り合せ装置 Vシリーズ

液晶パネル製造工程で、シール剤、液晶を塗布した後に二枚の基板を貼り合せる装置です。搬送システムを含めた液晶滴下貼り合せ(ODF)ライン...

TCOレーザースクライブ装置 ULT-1400

本装置はガラス基板上に成膜された透明電極(TCO)膜を近赤外パルスレーザアブレーション法により除去する枚用式レーザスクライブ装置です。...

レーザーエッジディレーション・絶縁スクライブ装置 ULE-1400

本装置は2種類のレーザを搭載した枚葉式レーザエッジディレーションおよび絶縁レーザスクライブ装置です。 ULVAC独自のレーザ処理方法に...

乾燥炉 AMF-1000 ACF-500 ASF-500

アルバックの真空乾燥炉は、HVからUHVの圧力領域でクリーンな環境下での脱ガス、前処理用途や、部品表面に付着した物質を真空アニールにて...

放出ガス測定装置 TDS-2001

本装置は小試料対応の放出ガス分析装置です。 半導体プロセスやディスプレイ等、様々な分野にてご使用頂けます。新材料の開発用途に最適です。...

活性化アニール装置 PFSシリーズ

PFSシリーズはSiC プロセス等の高温での処理が必要な工程にマッチングさせた活性化アニール装置です。基板サイズ最大φ 150mm に...

SOPHI-30

低加速・高濃度対応のイオン注入装置です。

SOPHI-400

Max2400KeVまで対応可能な高エネルギーのイオン注入装置です。

中電流型イオン注入装置 SOPHI-200/260

中電流型イオン注入装置SOPHI-200/260は、最新技術を搭載した8、6、5インチのイオン注入装置です。サンプリングをお受けしてい...

SiC用高温イオン注入装置 IH-860DSIC

高温ESCを搭載したSiC量産用高エネルギーイオン注入装置です。

研究開発用中電流イオン注入装置 IMX-3500

中電流イオン注入装置IMX-3500は、最大エネルギ200kV、ウェーハサイズ8インチまでの、イオン注入装置で、大学等での研究開発に最...

アッシング装置 Luminous NA シリーズ

Luminous NAシリーズはクリティカルな次世代ウェーハプロセスからウェーハレベル実装工程まで幅広いプロセスに対応可能なウェーハサ...

量産用ドライエッチング装置 NE-5700/NE-7800

量産用ドライエッチング装置NE-5700/NE-7800は、1チャンバーからマルチチャンバーに対応し、コストパフォーマンスを重視した拡...

オプトデバイス、MEMS向け ドライエッチング装置 NLD-5700

オプトデバイス、MEMS向けドライエッチング装置NLD-5700は、磁気中性線プラズマ(NLD)源を搭載した量産用ドライエッチング装置...

研究開発向けNLDドライエッチング装置 NLD-570

研究開発向けNLDドライエッチングNLD-570は、アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ(NLD)による低圧・低電子温度・高密...

ドライエッチング装置 APIOS NE-950EX

LED向け量産専用ドライエッチング装置「NE-950EX」は、当社従来比140%の生産性を実現。ICP高密度プラズマ源やアルバック独自...

実験用小型エッチング装置 CE-L

小型エッチング装置CE-Lは、「大気カセット」、「1枚仕込み大気搬送」、「真空搬送」等の自由な組み合わせが可能です。タッチパネル操作に...

バッチ式ドライエッチング装置 ULDEX-1600

ULDEX-1600は太陽電池シリコン基板で、エッチングガスを導入し高周波パワーにて表面凸凹構造を形成するプロセスを提供する装置です。...

バッチ式自然酸化膜除去装置 RISETM-300

バッチ式自然酸化膜除去装置RISETM-300は、LSIのDeep-contact...

研究開発向け 高密度プラズマエッチング装置 NE-550EX

研究開発向け高密度プラズマエッチング装置NE-550EXは、有磁場ICP(ISM=Inductively Super Magnetro...

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