SiC用高温イオン注入装置
IH-860DSIC

成膜関連装置イオン注入装置

高温ESCを搭載したSiC量産用高エネルギーイオン注入装置です。

用途

• SiC向けイオン注入装置

特長

• 自動連続高温処理注入が可能
• 1価イオンで350keV、2価イオンで700keVまでの注入が可能
  （オプションで1価イオンで430keV、2価イオンで860keVまで対応）
• デュアルエンドステーションにて高スループットを実現
  （A系4"高温ESC/B系3"高温ESC、A系6"高温ESC/B系6"常温ESC等、お客様の希望に合わせた仕様構築が可能）
• チェーン注入可能なため、オペレータの負荷軽減
• コンパクト設計
• 試作から量産まで幅広く対応可能