リアクティブプロセスガスモニタ Qulee RGM2-202/RGM2-302
リアクティブプロセスガスモニタ Qulee RGM2-202/RGM2-302は、Quleeシリーズのエッチング、CVD等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。
用途
- エッチング・CVD装置における
プロセス中の反応ガスのモニタ
エッチングやクリーニングプロセスのエンドポイントモニタ
残留ガス測定
リークテスト
特長
- 反応性プロセス中で長時間安定した測定が可能
- 磁場をもつクロードイオン源の採用
ソフトなイオン化でガスの解離が少なく、感度が高いイオン化室での熱反応による分解、吸着を防ぐ - コンパクトな流路制御バルブ
プロセス室からイオン源までの距離を短くし、速いレスポンスでの分解が可能 - 10-6 to 13kPa幅広い圧力での測定が可能（オリフィス選択による）
- PCレスでも測定可能
- One Click機能（だれにでも簡単、複雑な操作は不要）
- センサユニット接続時で最大120ºCの高温ベーキングが可能
- イオンソース、二次電子倍増管の予防保全分析管のトレサビリティ機能の搭載（特許出願中）
- ヘリウムリークテスト、エアリークテスト、ビルドアップテストが可能
- ソフトウェアが標準搭載（Windows 7,8,10対応)
