卓上型ランプ加熱装置　MILA-5050

赤外線イメージ炉 実験用途熱処理・加熱装置

本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。 試料寸法20mm 角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-5000 シリーズを発売以来、多くのお客様にご愛用いただいておりますが、「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm 角までの熱処理を可能といたしました。

用途

1. Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱
2. 光CVD の基板加熱などのエレクトロニクス材料の高速加熱
3. ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理
4. 熱サイクル試験
5. 金属材料の焼鈍
6. コーティング膜の耐熱評価
7. 有機材料、樹脂類の加熱、乾燥

特長

1. 最大W 50mm × L 50mm サイズまでの試料の熱処理が可能
2. 最高使用温度は1200℃
3. 加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体化した卓上型
4. Cold Wall 構造による急速加熱/ 冷却とクリーン加熱が可能
5. 温度レシピはUSB 接続したパソコンで簡単入力
6. 加熱中の温度データをパソコン画面に表示可能（テキストファイルとして保存も可能）