真空機器の国内総合商社 真空機器はアルバック販売へ!
製品情報

走査型X線光電子分光分析装置 (XPS/ESCA)
PHI Quantera II

X線光電子分光法 (XPS: X-Ray Photoelectron Spectroscopy, ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis )は、試料にX線を照射し、試料表面から放出される光電子のエネルギーを測定することにより表面の組成並びに化学結合状態に関する情報を得る手法です。
PHI Quantera II™ は、最小7.5μmのX線ビームを走査することが可能な微小領域X線光電子分光分析装置です。 微小領域における高感度分析はもとより、深さ方向分析・自動分析に卓越した性能を発揮し、高いスループットで分析ニーズに応えます。



特長

走査型X線源により最小7.5μmから最大1.4mmの領域での高感度分析
低エネルギーの電子とイオンの同時照射により、絶縁物試料を全自動で容易に帯電中和
高い深さ方向分析パフォーマンスを実現
信頼性のある全自動測定で、最高性能XPS
日本語Windows®7対応ソフトウェア

仕様

最小ビーム径 7.5μm以下
最高エネルギー分解能 0.48eV以下 ( Ag3d 5/2
最大感度 3.000.000cps (Ag3d 5/2
到達真空度 6.7×10-8Pa以下
オプション SPS(Sample Positioning Station)、Arガスクラスターイオン銃、C60イオン銃、
冷却加熱機構、Arイオン銃独立差動排気機構、トランスファーベッセル対応排気機構、各種処理チャンバーなど
Copyrights© 2014 ULVAC EQUIPMENT SALES, Inc. All Rights Reserved.