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製品情報

走査型X線光電子分光分析装置 (XPS/ESCA)
PHI 5000 VersaProbe II

X線光電子分光法 (XPS: X-Ray Photoelectron Spectroscopy, ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis )は、試料にX線を照射し、試料表面から放出される光電子のエネルギーを測定することにより表面の組成並びに化学結合状態に関する情報を得る手法です。
PHI 5000 VersaProbe II™は、走査型マイクロフォーカスX線源を多面的な分析が要求される研究・開発分野に活用するために開発されたマルチテクニックXPS装置です。UPS、AES、Arガスクラスターイオン銃、デュアルアノードX線源などの多様なオプションを目的に応じて搭載できます。



特長

走査型マイクロフォーカスX線源による微小領域分析(最小分析領域10μm)
豊富なオプションを搭載可能( UPS、オージェ分析用走査型電子銃、Arガスクラスターイオン銃、デュアルアノードX線源、試料処理室、など )
SXI ( Scanning X-ray Image ) により、正確・迅速に微小な分析位置を特定
低エネルギー電子とイオンの同時照射により、絶縁物試料を容易に帯電中和
5軸( X、Y、Z、Tilt、Rotation )モータ駆動による多点分析
Windows®7対応オペレーションソフトウェア ( SmartSoft™-VersaProbe )による容易な操作性
データ解析ソフトウェア(PHI MultiPak™)による容易且つ高度なデータ解析機能

仕様

最小ビーム径 10μm以下
最高エネルギー分解能 0.5eV以下 (Ag3d 5/2
最大感度 1,000,000cps (Ag3d 5/2
到達真空度 6.7×10-8Pa以下
オプション Arガスクラスターイオン銃、C60イオン銃、デュアルアノードX線源、真空紫外光源、トランスファーベッセル、加熱冷却ステー ジ、走査型電子銃 (オージェ分析)、イントロカメラ、イントロ高真空ゲージ、Arイオン銃独立差動排気機構、ドライポンプ、拡張用ポート前処理室(VersaPrep)、イントロ用前処理室(VersaLock)

 

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