高密度プラズマドライエッチング装置
ULHITE^TM NE-7800H

成膜関連装置エッチング装置

高密度プラズマドライエッチング装置ULHITE^TM NE-7800HはFeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAMなどに用いられる難エッチング材料（強誘電体、貴金属、磁性膜等）のエッチングに対応したマルチチャンバー型の低圧・高密度プラズマエッチング装置です。

用途

• FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.

特長

• 有磁場ICP（ISM）方式-低圧・高密度プラズマによる不揮発性材料加工専用機
• 常温から高温（400ºC）対応の積層膜一括エッチング、及びハードマスク除去までのエッチングソリューションを提供。
• チャンバーから排気ライン、DRPまで均一加熱によるデポ対策。
• メンテクリーニング費用やパーティクル発生を抑えた構造や材料、加熱機構等、不揮発性材料エッチングに豊富な経験を持つ量産装置。
• 長期の再現性･安定性を実現。