量産用ドライエッチング装置
NE-5700/NE-7800

成膜関連装置エッチング装置

量産用ドライエッチング装置NE-5700/NE-7800は、1チャンバーからマルチチャンバーに対応し、コストパフォーマンスを重視した拡張性あるエッチング装置です。

用途

• 化合物（LEDやLD、高周波デバイス）やパワーデバイス（IGBT配線加工、SiC加工）。
• メタル配線や層間絶縁膜（樹脂系）、ゲート電極加工プロセスに。
• 強誘電体材料や貴金属エッチングに。
• 磁性体材料加工に。

特長

• 1チャンバー以外にさらに有磁場ICP（ISM）やNLDプラズマ源、アッシングチャンバーやCCPチャンバーが搭載可能で多用なエッチングプロセスに対応。
• プロセス再現性や安定性のためのスター電極や各種温調機能を搭載。
• 容易なメンテナンス構造で最小のダウンタイム、再生洗浄やパーツ提供、メンテナンスやトレイニングサービス等の総合バックアップ体制。
• 半導体技術研究所による万全のプロセスサポート体制。