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製品情報

赤外線イメージ炉 実験用途

赤外線ゴールドイメージ炉の急速加熱冷却性、温度の精密制御、クリーンな加熱、自在な雰囲気選択などの優れた特性を温度制御器とともにコンパクトに一体化し、低価格、小型、高性能をコンセプトしています。

赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ

2inから300mmまでの高速熱処理。保持まで10秒。
高速加熱技術を結集し、研究開発から生産用までお客様のニーズにお応えし...

超高温ランプアニール装置 HT-RTA59HD

SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温領域1800℃まで昇温可能な卓上型超高温ランプアニ...

赤外線ランプ加熱装置 RTP-6

最大6インチまでのランプアニール装置。
個別半導体プロセスのシリサイド形成や化合物半導体のプロセスアニールが可能です。

赤外線ゴールドイメージ炉 RHL-Eシリーズ

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...

赤外線ゴールドイメージ炉 RHL-Pシリーズ

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...

赤外線ゴールドイメージ炉 VHT-Eシリーズ

赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...

スポット集光型赤外線ゴールドイメージ炉 MIROシリーズ

1800℃まで高速1分で昇温。
コンパクトで1800℃まで昇温可能な赤外線ゴールドイメージ炉です。ゾーンメルティングやSi...

卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050

本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。 試料寸法20mm 角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-5000 シリーズを発売以来、多くのお客様にご愛用いただいておりますが、「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm 角までの熱処理を可能といたしました。

卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ

小サンプルの研究開発に最適。
高速加熱・高速冷却、クリーン加熱が行えます。
自在な雰囲気下で加熱する事が可能で...

空冷卓上型ランプ加熱装置 MILA-700AR

冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置。
冷却は空冷ファン採用なので壁コンセントさえあれば直ちに加熱が出来ます。

超高真空卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000UHV型

コンパクトながら高真空の対応が可能。
MILA-5000-P-Nをベースに高速加熱・高速冷却、温度の精密制御、クリーンな加...

プログラム温度コントローラー TPC-5000シリーズ

高速加熱に精度よく対応可能な温調器。
高速昇温時の早いレスポンスが要求される赤外線ゴールドイメージ炉はもとより低速昇温炉用に...

簡易型赤外線ランプ加熱装置 SSAシリーズ

赤外線ゴールドイメージ炉と石英チャンバの簡易型装置。
赤外線ゴールドイメージ炉及び試料ホルダを含んだ石英チャンバから構成さ...

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