半導体デバイス向け高性能イオン注入装置のシリーズです。SiC用の高温タイプも提供します。
低加速・高濃度対応のイオン注入装置です。
Max2400KeVまで対応可能な高エネルギーのイオン注入装置です。
中電流型イオン注入装置SOPHI-200/260は、最新技術を搭載した8、6、5インチのイオン注入装置です。サンプリングをお受けしてい...
高温ESCを搭載したSiC量産用高エネルギーイオン注入装置です。
中電流イオン注入装置IMX-3500は、最大エネルギ200kV、ウェーハサイズ8インチまでの、イオン注入装置で、大学等での研究開発に最...
